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快速動力學停流裝置是好的多路混合停流裝置，淬滅裝置，快速混合溫度突變等裝置系統(tǒng)，產品設計解決您快速動力學應用中的所有需要。主要特點：1.恒溫水夾套設計，全電腦控制操作。2.程控驅動注射器，每路樣品流量可調，不受濃度與粘度影響。3.高精度，*可調的混合與稀釋比例。4.極短的死時間，可達0.25毫秒。5.二路、三路、四路流動注射停流裝置可選擇。可擴展溫度適用范圍：快速動力學停流裝置可更換SFM附件，應用于：化學淬滅，光學淬滅以及光學延時，冷凍淬滅，X-射線散射停流，中子色散停流，...

表面光電壓譜采用白光偏置光路激發(fā)材料；大功率*脈沖激光器，采用電磁屏蔽，無任何外界干擾，測試光路，水平與垂直可任意在線切換，實現(xiàn)固體樣品和液體樣品均可測試分析。光生載流子動力學主要測試技術，載流子動力學測試技術主要有電學和譜學兩類，電學方法主要是光電化學，測量方式又分時間域和頻率域，時間域方法主要有瞬態(tài)光電壓（TPV）和瞬態(tài)光電流（TPC），頻率域方法主要有電化學阻抗譜（EIS）和光強度調制光電壓譜（IPVS）和光強度調制光電流譜（IMPS）等。譜學方法主要是瞬態(tài)吸收光譜和瞬...

多功能磁控濺射儀由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測，用于制備各種金屬膜、半導體膜、介質膜、磁控膜、光學膜、超導膜、傳感膜以及各種特殊需求的功能薄膜。磁控濺射儀的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子，新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶...

狹縫擠出式涂布機是一款應用狹縫擠出式涂布模頭對基材進行非接觸式涂布的一款設備。該設備通過配置狹縫擠壓涂布模頭、精密計量供料系統(tǒng)與進料閥體配合可實現(xiàn)連續(xù)涂布和條紋涂布兩種類型的涂布功能。設備涂布精度高，一致性和穩(wěn)定性好，廣泛應用于鋰離子電池、FCCL、光學薄膜、膠帶以及各種功能薄膜行業(yè)，狹縫擠出涂布方式，涂布精度高，涂層一致性好；供料閥體配合模頭墊片，可實現(xiàn)連續(xù)、間歇、條紋、網(wǎng)格等形狀的涂布；模頭根據(jù)客戶材料特性設計，可實現(xiàn)超薄亞微米級涂布；計量泵供料，漿料封閉運行，可自由設定...

深能級瞬態(tài)譜儀是半導體領域研究和檢測半導體雜質、缺陷深能級、界面態(tài)等的重要儀器。根據(jù)半導體P-N結、金－半接觸結構肖特基結的瞬態(tài)電容（△C～t）技術和深能級瞬態(tài)譜（DLTS）的發(fā)射率窗技術測量出的深能級瞬態(tài)譜，是一種具有高檢測靈敏度(檢測靈敏度通常為半導體材料中摻雜濟濃度的萬分之一)的實驗方法，能檢測半導體中微量雜質、缺陷的深能級及界面態(tài)。通過對樣品的溫度掃描，可以給出表征半導體禁帶范圍內的雜質、缺陷深能級及界面態(tài)隨溫度（即能量）分布的DLTS譜，集成多種全自動的測量模式及全...

表面光電壓譜主要應用于半導體材料或者器件的TPV測試和機理分析，光催化材料TiO2、C3N4、CdS、磷化物等、催化材料、分子篩、太陽能電池（單晶、多晶、染料敏化、鈣鈦礦）、光電化學的TPV、電化學材料的TPV等。光電壓譜采用白光偏置光路激發(fā)材料；大功率*脈沖激光器；采用專有技術的電磁屏蔽，無任何外界干擾；測試光路，水平與垂直可任意在線切換，實現(xiàn)固體樣品和液體樣品均可測試分析。光生載流子動力學主要測試技術，載流子動力學測試技術主要有電學和譜學兩類.電學方法主要是光電化學，測量...