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皮可安培計又被人們稱為電流表，它主要的目的就是為了測量電流，安培計的類型也有很多種，比如有轉(zhuǎn)動線圈式、熱偶式和轉(zhuǎn)動鐵片式等等。安培計是用來測量電路中電流大小的儀器，學會正確的使用安培計對以后電路的學習和研究具有很重要的意義。下面小編給大家介紹一下安培計的使用方法。皮可安培計如何使用？1、接表：安培計必須串聯(lián)在待測電路中，使電流從安培計的“+”接線柱流入，從“－”接線柱流出。使用安培計的時候，它的兩個接線柱千萬不能直接接到電源的兩極上，否則由于電流過大而將電流表燒壞。2、選擇表...

球磨測厚儀采用的高性能、低功耗微處理器技術(shù)，基于超聲波測量原理，可以測量金屬及其它多種材料的厚度，并可以對材料的聲速進行測量。可以對生產(chǎn)設(shè)備中各種管道和壓力容器進行監(jiān)測，監(jiān)測它們在使用過程中受腐蝕后的減薄程度，也可以對各種板材和各種加工零件作測量。球磨測厚儀測厚原理：1、千分尺：千分尺應該能夠近測量5um。應該安裝一個棘齒，以便限制主軸上的力施加在試驗表面上。帶有平面測量面的千分尺頭被夾在帶有平坦的基板的堅固架子上，架子的高度應可以調(diào)整。測量面應和基板的頂部平行對齊。2、度盤...

多功能磁控濺射儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備。原理:磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子...

狹縫擠出式涂布機是一種利用激光對物體進行轟擊，然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。歷史背景：早于1916年，愛因斯坦（AlbertEinstein）已提出受激發(fā)射作用的假設(shè)。可是，首部以紅寶石棒為產(chǎn)生激光媒介的激光器，卻要到1960年，才由梅曼（TheodoreH.Maiman）在休斯實驗研究所建造出來。總共相隔了44年。使用激光來熔化物料的歷史，要追溯到1962年，布里奇（Breech）與克羅斯（Cross）利用紅寶石激光器，汽化與激發(fā)固體表...

狹縫擠出式涂布機應用于鋰電池正、負極極片涂布工藝，是一款應用狹縫擠出式涂布模頭對基材進行非接觸式涂布的一款設(shè)備。該設(shè)備通過配置slotdie狹縫擠壓涂布模頭、精密計量供料系統(tǒng)與進料閥體配合可實現(xiàn)連續(xù)涂布、條紋涂布、間歇涂布、網(wǎng)格涂布等涂布工藝。該設(shè)備也適用于對一些其它類型漿料及基材的涂布工藝。設(shè)備具有較高的涂布精度高，一致性和穩(wěn)定性好，可應用于鋰離子電池、FCCL、光學薄膜、膠帶以及各種功能薄膜行業(yè)，適合實驗室或樣品線用于產(chǎn)品的工藝摸索。狹縫擠出式涂布機功能特點：1、slot...

狹縫擠出式涂布機應用于鋰電池正、負極極片涂布工藝，是一款應用狹縫擠出式涂布模頭對基材進行非接觸式涂布的一款設(shè)備。該設(shè)備通過配置slotdie狹縫擠壓涂布模頭、精密計量供料系統(tǒng)與進料閥體配合可實現(xiàn)連續(xù)涂布、條紋涂布、間歇涂布、網(wǎng)格涂布等涂布工藝。該設(shè)備也適用于對一些其它類型漿料及基材的涂布工藝。設(shè)備具有較高的涂布精度高，一致性和穩(wěn)定性好，可應用于鋰離子電池、FCCL、光學薄膜、膠帶以及各種功能薄膜行業(yè)，適合實驗室或樣品線用于產(chǎn)品的工藝摸索。適用于有機太陽能電池OPV和鈣鈦礦太陽...