真空腔體水氣解吸附組件

真空腔體水氣解吸附組件

Zcuve是近年來國際上較多使用的水蒸氣解吸技術。*的設計可從2.75“擴展到8"法蘭尺寸，具有比例較高的紫外線功率因數和較大的法蘭尺寸。

Zcuve的設計目的是在真空室內不可能有一個暴露的紫外線發射器的情況下，從大型沉積室中解吸水。標準現成的百葉窗可用于防止Zcuve在沉積過程中被涂層。

這一過程在O型環（氟橡膠）密封真空室（沒有任何其他烘烤方式）上效果好，也適用于較小尺寸的樣品傳輸。

技術參數：

An external assembly houses the UV emitter, which is situated just behind 高紫外線透射，超高真空窗。發射器背面的一面鏡子進一步改善了185納米紫外線輻射通過窗戶進入真空室的傳輸。Zcuve外殼用惰性氣體進行回填，以防止外殼內產生臭氧。最后，發射極引線經由mhv高壓連接器連接至控制裝置。

主要特點：

利用紫外輻射解吸水蒸氣的優點是產生很少的熱量。更少的熱量意味著更少的機械零件和樣品損壞。另一個優點是，uvc不需要直接的現場線路來解吸水蒸氣。它不能進入角落和縫隙，但它可以反射拋光表面（如室壁），每次“反彈"損失50%到70%。

UVB-100
uvb-100使用uvc輻射無需加熱就可以釋放水蒸氣。發射器伸入真空室。

ZCuVE
零間隙紫外發射器水蒸氣解吸系統（Zcuve）利用紫外輻射無熱解吸水蒸氣。發射器位于真空室外面。

注：這些水蒸氣解吸產品設計用于高真空系統、大真空、氣室和樣品傳輸。它們的設計并不是為了取代超高真空系統中的輻射烘烤方法，而是與特高壓兼容。