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飛行時間二次離子質譜2-材料表征 飛行時間二次離子質譜是一種靈敏的表面分析技術，可以廣泛應用于物理，化學，微電子，生物，制藥，空間分析等工業和研究方面。TOF-SIMS可以提供表面，薄膜，界面以至于三維樣品的元素，分子等結構信息。

深能級瞬態譜儀2-半導體表征 深能級瞬態譜儀是半導體領域研究和檢測半導體雜質、缺陷深能級、界面態等的重要技術手段！測試功能：電容模式、定電容模式、電流模式、（雙關聯模式）、光激發模式、FET分析、MOS分析、等溫瞬態譜、Trap profiling、俘獲截面測量、I/V,I/V（T） 、C/V, C/V（T） 、TSC/TSCAP 、光子誘導瞬態譜、DLOS。

深能級瞬態譜儀-半導體表征 半導體領域研究和檢測半導體雜質、缺陷深能級、界面態等的重要技術手段。根據半導體P-N 結、金－半接觸結構肖特基結的瞬態電容（△C～t）技術和深能級瞬態譜（DLTS）的發射率窗技術測量出的深能級瞬態譜

英國KP開爾文探針掃描-半導體表征 英國KP開爾文探針掃描是一種非接觸無損震蕩電容裝置，用于測量導體材料的功函數（Work Function）或半導體、絕緣表面的表面勢（Surface Potential）。材料表面的功函數通常由Z上層的1-3層原子或分子決定，所以開爾文探針是一種Z靈敏的表面分析技術。

開爾文探針掃描系統-半導體表征 開爾文探針掃描系統是一種非接觸無損震蕩電容裝置，用于測量導體材料的功函數(Work Function)或半導體、絕緣表面的表面勢(Surface Potential)。材料表面的功函數通常由Z上層的1-3層原子或分子決定，所以開爾文探針是一種Z靈敏的表面分析技術。

飛行時間二次離子質譜-材料表征 飛行時間二次離子質譜是一種非常靈敏的表面分析技術。可以廣泛應用于物理，化學，微電子，生物，制藥，空間分析等工業和研究方面。TOF-SIMS可以提供表面，薄膜，界面以至于三維樣品的元素，分子等結構信息。

半自動劃片機/切片機（6英寸）-半導體材料 適用于 6 英寸晶圓– 6 英寸硅晶圓 – 緊湊尺寸的占地面積（寬 x 深 = 590 x 880） – 多處安裝劃片 可劃片的樣品： 硅晶圓， PCB， QFN， PBGA， 陶瓷， 石英玻璃， LED，移動式藍色玻璃濾光片、碳化硅等

半自動劃片機（8英寸，12英寸）-半導體材料 – 最大 16 英寸 – 重復精度（Y 軸） ： 0.001 – 可選 3 英寸刀片、BBD（刀片斷裂檢測儀）、NCS（非接觸式傳感器） – 真空卡盤：6~12英寸