磁控濺射鍍膜由真空鍍膜系統和真空手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。

　　蒸發鍍膜與手套箱組合，實現蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作，使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環境氛圍的系統中，消除有機大面積電路制備過程中大氣環境中不穩定因素影響，保障了高性能、大面積有機光電器件和電路的制備，用于制備各種金屬膜、半導體膜、介質膜、磁控膜、光學膜、超導膜、傳感膜以及各種特殊需求的功能薄膜。

　　磁控濺射鍍膜用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備，可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備，同時設備具有反濺射清洗功能，以提高膜的質量和牢固度。系統主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（2個靶）、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。

　　設備配有陽極層離子源，可對樣品進行清洗，同時，可在鍍膜時，對樣品進行輔助沉積，用于反應氣體進氣和氬氣氣路，具有混氣功能；腔內氣壓可測可調可控。濺射室烘烤照明采用紅外加熱除氣方式，真空室內有襯板，避免濺射材料直接濺射到濺射室真空壁上。設備具有斷水斷電連鎖保護功能，有防止誤操作保護功能，系統采用手動控制膜制備過程可控制靶擋板、樣品轉動、樣品控溫等。