表面光電壓譜一體整合，空間更緊湊，操作更簡便，高精度，自動化，數字化，讓實驗數據更準確，高均勻可調節光纖光源，特別為光電極輻照設計，在半導體及現代許多高科技領域里是一種很重要的研究手段。

   半導體與金屬接觸處產生表面勢壘，當光照射在樣品與金屬的接觸界面上時，在光照面和非光照面之間建立起電位差，記錄這個電位差和入射光波長的關系得到表面光電壓譜。表面光電壓譜反應材料的光吸收性質和電子的帶-帶躍遷，同時有收到光生載流子壽命的影響，多用于測量非平衡少數載流子的壽命，多采用的穩態測量法，它利用穩定的光照，使半導體中非平衡少子的分布達到穩定，從而、快速地推算出勺子壽命。

   表面光電壓譜測量中一個關鍵的測量不確定因素是光源的穩定性，提高了測量的度。表面光電壓譜測量系統主要有氙燈光源、自動掃描單色儀、光纖束、鎖相放大器、光學斬波器、暗室和數據采集軟件等部分組成，光催化過程的理解是利用太陽能的前提，其中對半導體光催化中光激發電子和空穴的有效分離和遷移的理解是提高光催化效率的關鍵。

   將氧化還原催化劑分別沉積于單晶粒子的相應晶面，光催化性能可以提高300%，該研究不僅揭示光催化材料中一種新的且有效的電荷分離驅動力，并且為不對稱的助催化組裝，以及空間可控的氧化還原反應提供了新的策略。

   表面光電壓譜在一定程度上提高了光電催化分解水的效率。然而，到目前為止，人們對光催化過程的認識還很有限，對光電催化劑的研究大多停留在催化劑的合成和篩選上，對于光催化過程中表面催化活性中心結構和反應動力 學，光生電荷在界面傳輸的過程和在光催化劑表面的分布認識較少，大大阻礙了從分子水平上設計、合成新型的光電催化劑。